Thiết bị ICP-MS cung từ thu hút vô số người dùng bao gồm các học giả trong lĩnh vực địa hóa học, địa thời gian, khoáng vật học, đá quý, và nhiều ngành khoa học môi trường. Hơn nữa, các khách hàng Công nghiệp quan tâm đến vật liệu hạt nhân và các lĩnh vực phân tích vật liệu được hưởng lợi từ nhiều loại sản phẩm ICP này.

Máy quang phổ khối plasma kết hợp cảm ứng trường từ trường (ICP-MS) kết hợp nguồn ICP argon (Ar) với máy phân tích lấy nét kép để thực hiện phân tích kim loại vết/siêu vết và/hoặc phép đo tỷ lệ đồng vị.

Các mẫu, thường ở dạng dung dịch, đến plasma dưới dạng sol khí sau khi đi qua máy phun sương và buồng phun/máy khử dung môi. Các hệ thống đưa mẫu khác nhau có thể được ghép nối với thiết bị cho phép phân tích trực tiếp như cắt bỏ bằng laser, sắc ký khí… Ở nhiệt độ cao đạt được trong nguồn plasma, hầu hết các nguyên tố bao gồm cả những nguyên tố có tiềm năng ion hóa cao hơn có thể bị nguyên tử hóa và ion hóa gần như hoàn toàn. Một phần của các ion được tạo ra sau đó được gia tốc và chiết xuất qua một loạt các hình nón và thấu kính đến khối phổ kế. ICP-MS cung từ có thể đạt được độ phân giải cao hơn ICP-MS bốn cực, cho phép giảm hoặc loại bỏ ảnh hưởng của nhiễu do chồng lấp khối lượng. Hình học thiết kế kiểu hội tụ kép bao gồm khu vực tĩnh điện và khu vực từ tính cho phép loại bỏ sự lan truyền năng lượng và sự phân tách của các chùm ion dựa trên tỷ lệ khối lượng trên điện tích của chúng. Trường từ trường ICP-MS có thể được trang bị một bộ thu duy nhất (single collector) để phân tích tỷ lệ nguyên tố/đồng vị hoặc nhiều bộ thu (multi-collector) để tạo điều kiện phát hiện đồng thời các chùm ion để phân tích tỷ lệ đồng vị có độ chính xác cao.     

Kỹ thuật ICP-MS cung từ linh hoạt, nhanh chóng, được hưởng lợi từ quá trình ion hóa vượt trội của nguồn ICP và khả năng phân giải cao của nó, là kỹ thuật được lựa chọn để phân tích nguyên tố và phân tích đồng vị trong một số lượng lớn các lĩnh vực ứng dụng.