ProvenX-MM

Hệ thống ProvenX-MM là một hệ thống cơ sở chuyên dụng cho các giải pháp kính hiển vi động lượng, hỗ trợ dòng sản phẩm KREIOS 150, máy dò sự kiện đơn song song và tuỳ chọn phát hiện spin, cũng như nguồn UVS µFOCAL điểm nhỏ với bộ đơn sắc tùy chọn. Việc xử lý mẫu được thực hiện bằng giai đoạn kính hiển vi ở nhiệt độ thấp SPECS HESTIA. Hệ thống đi kèm với một buồng chuẩn bị chuyên dụng, một cơ sở lưu trữ mẫu UHV sạch và một khóa nạp nhập nhanh và nhiều mẫu.

Điều khiển hệ thống được thực hiện bởi bộ phần mềm SpecsLab Prodigy với các gói điều khiển từ xa tích hợp, xử lý mẫu tự động và hệ thống điều khiển chân không dựa trên máy tính.

Hệ thống có thể được trang bị nguồn tia X điểm nhỏ tối ưu để mô tả đặc tính vật liệu. Phần mềm được bổ sung và hoàn thiện hơn đi kèm các công cụ chuẩn bị được tích hợp sẵn.

  • Kính hiển vi động lượng với độ phân giải cao
  • Giai đoạn lấy mẫu ở nhiệt độ thấp

  • Nguồn UV điểm nhỏ đơn sắc

  • Thiết kế hệ thống đáng tin cậy và đã được chứng minh thực tiễn 

  • Thêm tuỳ chọn chức năng tạo ảnh XPS đơn sắc điểm nhỏ 

  • Điều khiển hệ thống hoàn toàn tự động

  • Bao gồm Buồng chuẩn bị, Khóa tải và Khu lưu trữ mẫu

PROVENX-MM

Performance

Energy Resolution

< 10 meV (< 5 meV achievable) with KREIOS 150
< 25 meV with KREIOS 150 MM

k-Resolution

< 0.008 Å-1 with KREIOS Series

Acceptance Angle

< 3.6 Å-1 / ±90° with KREIOS Series

Sample Temperature

< 9 K with HESTIA Sample Stage

Spot Size

< 100 µm UV Spot Size with UVS µFOCAL
< 250 µm X-Ray Spot Size with µFOCUS 500

Residual Magentic Field

< 0.5 µT in Analysis Chamber

Base Pressure

< 2x10-10 mbar in Analysis and Preparation Chamber
< 5x10-8 mbar in Load Lock

Configuration

Electron Energy Analyser

SPECS KREIOS 150 Electron Momentum Spectrometer
SPECS KREIOS 150 MM Momentum Microscope
SPECS KREIOS 150 MM Twin Momentum Microscope

Detector

2D-CMOS True Parallel Pulse Counting Detector

optional:
3D Spin Detector with VLEED or MOTT Detection Scheme
Direct Imaging Spin Detector with KREIOS 150 MM

Analysis Chamber

spherical µ-metal chamber

Manipulator

HESTIA Sample Stage

Preparation Chamber

Stainless Steel Preparation Chamber
Options: LEED, Surface Cleaning, Plasma Treatment, Deposition Sources

Load Lock

Fast Entry Load Lock with Sample Storage for 4 Samples

UV Source

SPECS UVS with µFOCAL capillary and optional TMM 304 UV Monochromator
Hg Discharge Light Source

X-Ray Source

SPECS µFOCUS 500 X-Ray Monochromator with Al kα Anode

Sample Storage

4 Slots in Analysis Chamber and 4 Slots in Loadlock Chamber

Vacuum Control

SPECS Vacuum Control Software for Full Vacuum System Automation

Operating Software

SpecsLab Prodigy Control Software

  • Chia sẻ qua viber bài: ProvenX-MM
  • Chia sẻ qua reddit bài:ProvenX-MM

sản phẩm

Loading...

Sản phẩm liên quan

Hệ thống làm lạnh pha loãng bằng đồng vị Heli LD250

Hệ thống làm lạnh pha loãng bằng đồng vị Heli LD250 Model: LD250 Hãng sản xuất: Bluefors - Phần Lan Xuất xứ: Phần Lan Được thiết kế để cung cấp môi trường nhiệt độ cực thấp (dưới 10 mK) cho các thí nghiệm lượng tử và nghiên cứu vật lý nhiệt độ thấp. Hệ thống này nổi bật với khả năng làm lạnh nhanh, vận hành tự động, và thiết kế mở giúp dễ dàng tiếp cận không gian thí nghiệm. LD250 được tối ưu hóa để cung cấp công suất làm lạnh, phù hợp cho các thí nghiệm yêu cầu không gian mẫu lớn và công suất làm lạnh mạnh mẽ.
Xem thêm

Hệ thống làm lạnh pha loãng bằng đồng vị Heli LD400

Hệ thống làm lạnh pha loãng bằng đồng vị Heli Model: LD400 Hãng sản xuất: Bluefors - Phần Lan Xuất xứ: Phần Lan Được thiết kế để cung cấp môi trường nhiệt độ cực thấp (dưới 10 mK) cho các thí nghiệm lượng tử và nghiên cứu vật lý nhiệt độ thấp. Hệ thống này nổi bật với khả năng làm lạnh nhanh, vận hành tự động, và thiết kế mở giúp dễ dàng tiếp cận không gian thí nghiệm. LD400 được tối ưu hóa để cung cấp công suất làm lạnh, phù hợp cho các thí nghiệm yêu cầu không gian mẫu lớn và công suất làm lạnh mạnh mẽ.
Xem thêm

Thiết bị hoá hơi hoá học Plasma tăng cường - PECVD

PlasmaPro 80 là một công cụ nạp mở, nhỏ gọn để khắc và lắng đọng plasma. Nó đại diện cho thế hệ hệ thống plasma tiếp theo. Hệ thống này lý tưởng cho R&D hoặc sản xuất quy mô nhỏ, có khả năng xử lý từ những mảnh wafer nhỏ nhất đến wafer 200mm. Thiết kế nạp mở của nó cho phép nạp và dỡ wafer nhanh chóng, lý tưởng cho nghiên cứu, tạo mẫu và sản xuất khối lượng thấp.
Xem thêm