Kính hiển vi tia X ChromaXRM-500
Liên hệ
Loading...
Kính hiển vi tia X ChromaXRM-500
American

American

Viet Nam

Viet Nam

Kính hiển vi tia X ChromaXRM-500

Độ tương phản cao nhất & Thông lượng cao nhất

ChromaXRM có nguồn X-quang đa sắc được cấp bằng sáng chế của Sigray. Việc chọn tia X đa sắc của chùm tia X chiếumẫu có thể cải thiện đáng kể độ tương phản để trực quan hóa các chi tiết mà nếu không làm như vậy sẽ bị bỏ qua, như có thể thấy rõ trong các hình ảnh bên dưới khi so sánh ChromaXRM với các XRM khác. Do độ tương phản cao, có thể thu được ảnh chụp cắt lớp với tốc độ gấp 10 lần đối với các mẫu thử thách này.

Độ phân giải không gian 500nm

ChromaXRM đạt được độ phân giải không gian cao nhất hiện có trên thị trường ở bước sóng 500nm (0,5 µm). Hình bên dưới là những quả trứng riêng lẻ được phân giải trong bao trứng của mẫu vật daphnia (bọ chét nước).

Vi trường rộng với 5 đầu thu

Có tới 5 tùy chọn cấu hình đầu thu trong cùng một hệ thống, cho phép lựa chọn giữa nhiều cài đặt độ phân giải và trường quan sát tương tự như kính hiển vi quang học.

Khoa học Đời sống: Mô mềm không nhuộm màu
Mô mềm không nhuộm màu Tia X thường được coi là quá mạnh đối với hình ảnh mô mềm. Với nguồn tia X đa phổ trên ChromaXRM, mục tiêu Chromium có thể được chọn để cung cấp hình ảnh độ phân giải tế bào, chất lượng cao của mô mềm sinh học không nhuộm màu. Hiển thị là một mẫu gan không nhuộm màu với các chi tiết cho đến tế bào gan.

 

Sợi carbon và vật liệu Z thấp
Vật liệu tổng hợp carbon như polyme được gia cố bằng sợi carbon và giấy carbon đại diện cho một số vật liệu thách thức nhất đối với kính hiển vi tia X 3D để tạo ảnh. ChromaXRM cung cấp độ tương phản và độ phân giải tuyệt vời cho các mẫu này, cho phép phân đoạn đơn giản để định lượng.

Hỗn hợp cacbua silic sử dụng ChromaXRM. Độ tương phản được cải thiện đáng kể so với kết quả nguồn tia X dựa trên W

Dược phẩm
Hình ảnh cấu trúc vi mô trong quá trình phát triển quy trình là rất quan trọng trong việc giảm thiểu thời gian đưa ra thị trường. ChromaXRM cung cấp khả năng: định lượng các biến thể hàng loạt về độ dày lớp phủ, đo lường sự phân bố API trong công thức và tìm vết nứt, lỗ rỗng và khuyết tật trong viên nén và thuốc viên. Lựa chọn mục tiêu tia X trong nguồn tia X đa phổ được cấp bằng sáng chế của Sigray giúp cải thiện độ tương phản và thông lượng.

Côn trùng học và Thực vật học

Lựa chọn năng lượng tia X thấp hơn trên nguồn tương phản đa phổ của ChromaXRM cho phép độ tương phản tuyệt vời để chụp ảnh côn trùng và thực vật cho nghiên cứu côn trùng học và thực vật học.

Thông số kỹ thuật ChromaXRM-500

 Tham sốSự chỉ rõ
Tổng thểĐộ phân giải không gian0,5 um với vật kính 40X
Voxel tối thiểu275nm
NguồnKiểuSigray được cấp bằng sáng chế nguồn microfocus siêu sáng
Vôn20 - 60kVp
Nguồn phát100W
Đích X-rayTối đa 5 loại
Bao gồm chọn lọc từ Cr, Cu, Rh, W, Mo, Au, Ti, Ag.
Những nguồn khác có sẵn theo yêu cầu.
Đầu thuKiểuLên đến 5 loại. Bao gồm đàu thu LFOV và đầu thu độ phân giải cao.
Máy ảnhCCD làm mát sâu 4MP
Máy ảnh quang họcCamera căn chỉnh 16MP
Phần mềmChỉ huy và kiểm soátSigray 3D với giao diện trực quan
Tái  cấu trúc 3DGigaRecon - phần mềm tái tạo CBCT thương mại nhanh nhất
Quét bù đắpMở rộng FOV ngang. Ưu điểm của phần mềm Sigray
Quét xoắn ốcĐã bật cho các mẫu cao
AutoPilotHoạt động của kính hiển vi được hỗ trợ bởi AI để thu nhận dữ liệu không giám sát
Máy trạm LinuxGiao diện nằm trên máy trạm Windows, trong khi máy trạm Linux mạnh mẽ riêng biệt điều khiển hệ thống. Thuận lợi cho hoạt động đáng tin cậy 24-7.
EPICSKiểm soát phần mềm mã nguồn mở để linh hoạt tối đa
Kích thướcKích thướcHệ thống máy tính để bàn
250 kg
Cỡ mẫuĐường kính 50 x 50mm
Kính hiển vi X-ray ChromaXRM-500kính hiển viKính hiển vi X-raykính hiển vi 3DTomogrpahyKính hiển vi chụp cắt lớpchụp cắt lớpkính hiển vi tia Xsigray
  • Chia sẻ qua viber bài: Kính hiển vi tia X ChromaXRM-500
  • Chia sẻ qua reddit bài:Kính hiển vi tia X ChromaXRM-500

sản phẩm

Loading...

Sản phẩm liên quan

Hệ thống quang khắc chùm ion Elionix

EIS-200ERP (Elionix Ion Beam Etching/Sputtering System): Đây là một hệ thống quang khắc/phún xạ chùm ion, cho phép ăn mòn vật liệu ở cấp độ nano và lắng đọng bằng cách sử dụng chùm ion ECR. EIS-220P: Một mẫu máy mới hơn, cũng thuộc dòng sản phẩm quang khắc/phún xạ chùm ion ECR.
Xem thêm

Thiết bị hoá hơi hoá học Plasma tăng cường - PECVD

PlasmaPro 80 là một công cụ nạp mở, nhỏ gọn để khắc và lắng đọng plasma. Nó đại diện cho thế hệ hệ thống plasma tiếp theo. Hệ thống này lý tưởng cho R&D hoặc sản xuất quy mô nhỏ, có khả năng xử lý từ những mảnh wafer nhỏ nhất đến wafer 200mm. Thiết kế nạp mở của nó cho phép nạp và dỡ wafer nhanh chóng, lý tưởng cho nghiên cứu, tạo mẫu và sản xuất khối lượng thấp.
Xem thêm

Hệ thống quang khắc chùm electron ELS-ORCA

ELS-ORCA mang lại hiệu suất tiên tiến trên một nền tảng có thể tùy chỉnh, được thiết kế đặc biệt cho các ứng dụng nghiên cứu và phát triển (R&D). Các tính năng tùy chọn bao gồm: Tự động lấy nét Hiệu chỉnh tiêu cự động (dynamic focus correction) Hỗ trợ điện áp gia tốc lên đến 50 kV Ngoài ra, hệ thống còn có tùy chọn quan sát hình ảnh SEM độ phân giải cao với khả năng làm chậm chùm tia (beam retarding), giúp cải thiện khả năng quan sát mẫu ở điện áp gia tốc thấp. Điều này cho phép người dùng căn chỉnh và hiệu chuẩn chính xác các mẫu quang khắc với bản thiết kế CAD.
Xem thêm

Hệ thống quang khắc chùm electron ELS-BODEN

Dòng ELS-BODEN được thiết kế dành cho những nhà đổi mới đang thúc đẩy giới hạn của công nghệ tạo mẫu siêu mịn. Với vùng ghi lên đến 300 mm vuông, các hệ thống EBL này có thể xử lý từ mẫu nhỏ đến wafer 300 mm hoàn chỉnh và mặt nạ 9 inch. Một bộ đầy đủ các bộ nạp tự động (autoloaders) hỗ trợ quy trình tự động hóa liền mạch cho nhiều loại quy trình làm việc khác nhau. Các mức điện áp gia tốc sẵn có là 50, 100, 125 và 150 kV – có thể lựa chọn để phù hợp với nhu cầu ứng dụng của bạn.
Xem thêm