G[SAFE] - Tủ Găng Tay An Toàn Cao Cho Chất Độc Hại

Đặc điểm chính:

Vận hành dưới áp suất âm để ngăn rò rỉ chất độc ra ngoài. 

Hệ thống lọc HEPA kép (đầu vào và đầu ra) an toàn cao. 

Bảo vệ tối ưu cho cả người vận hành và sản phẩm. 

Thiết kế chuyên biệt cho xử lý bột độc hại (cytotoxic, pathogens). 

Dễ dàng vệ sinh và khử trùng bề mặt bên trong. 

Tích hợp các cổng kết nối kín để thải bỏ chất thải an toàn. 

Hệ thống giám sát dòng khí và áp suất liên tục. 

Tuân thủ các tiêu chuẩn an toàn sinh học và dược phẩm khắt khe.

 

Thông số kỹ thuật chính:

Chế độ vận hành: Áp suất âm (Negative pressure). 

Hiệu suất lọc: HEPA H14 (99.995%). 

Độ sạch không khí: Đạt ISO 5 theo tiêu chuẩn 14644-1. 

Vật liệu: Thép không gỉ chống hóa chất mạnh. 

Găng tay: Vật liệu CSM hoặc Butyl kháng hóa chất/UV. 

An toàn: Van an toàn áp suất tích hợp. 

  • Chia sẻ qua viber bài: G[SAFE] - Tủ Găng Tay An Toàn Cao Cho Chất Độc Hại
  • Chia sẻ qua reddit bài:G[SAFE] - Tủ Găng Tay An Toàn Cao Cho Chất Độc Hại

sản phẩm

Loading...

Sản phẩm liên quan

Hệ thống quang khắc chùm ion Elionix

EIS-200ERP (Elionix Ion Beam Etching/Sputtering System): Đây là một hệ thống quang khắc/phún xạ chùm ion, cho phép ăn mòn vật liệu ở cấp độ nano và lắng đọng bằng cách sử dụng chùm ion ECR. EIS-220P: Một mẫu máy mới hơn, cũng thuộc dòng sản phẩm quang khắc/phún xạ chùm ion ECR.
Xem thêm

Thiết bị hoá hơi hoá học Plasma tăng cường - PECVD

PlasmaPro 80 là một công cụ nạp mở, nhỏ gọn để khắc và lắng đọng plasma. Nó đại diện cho thế hệ hệ thống plasma tiếp theo. Hệ thống này lý tưởng cho R&D hoặc sản xuất quy mô nhỏ, có khả năng xử lý từ những mảnh wafer nhỏ nhất đến wafer 200mm. Thiết kế nạp mở của nó cho phép nạp và dỡ wafer nhanh chóng, lý tưởng cho nghiên cứu, tạo mẫu và sản xuất khối lượng thấp.
Xem thêm

Hệ thống quang khắc chùm electron ELS-ORCA

ELS-ORCA mang lại hiệu suất tiên tiến trên một nền tảng có thể tùy chỉnh, được thiết kế đặc biệt cho các ứng dụng nghiên cứu và phát triển (R&D). Các tính năng tùy chọn bao gồm: Tự động lấy nét Hiệu chỉnh tiêu cự động (dynamic focus correction) Hỗ trợ điện áp gia tốc lên đến 50 kV Ngoài ra, hệ thống còn có tùy chọn quan sát hình ảnh SEM độ phân giải cao với khả năng làm chậm chùm tia (beam retarding), giúp cải thiện khả năng quan sát mẫu ở điện áp gia tốc thấp. Điều này cho phép người dùng căn chỉnh và hiệu chuẩn chính xác các mẫu quang khắc với bản thiết kế CAD.
Xem thêm

TIN MỚI

CHÚNG TÔI ĐÃ CHUYỂN TỚI WWW.adst.vn

CÁM ƠN BẠN ĐÃ GHÉ THĂM WEBSITE MỚI CỦA CHÚNG TÔI!

CHUYỂN TRANG