Hệ thống quang khắc chùm electron ELS-ORCA

ELS-ORCA là hệ thống quang khắc bằng chùm tia điện tử ở điện áp 30 kV, có thể được tùy chỉnh với nhiều tùy chọn như:

  • Điện áp gia tốc 50 kV

  • Lấy nét động / chỉnh stigma

  • Hệ thống cảm biến chiều cao hỗ trợ lấy nét tự động

Sự kết hợp của các tùy chọn này giúp ELS-ORCA trở thành một hệ thống linh hoạt, phù hợp với nhu cầu cụ thể của từng nhà nghiên cứu.


Phần mềm thân thiện với người dùng

Hệ thống ELS-ORCA được cài đặt sẵn phần mềm điều khiển mới có tên "elms" – một bộ công cụ toàn diện bao gồm:

  • Chuyển đổi dữ liệu CAD

  • Điều chỉnh chùm tia

  • Phơi sáng (exposure)

  • Quan sát bằng kính hiển vi điện tử quét (SEM)

Cấu trúc mô-đun giúp các chức năng cần thiết dễ tiếp cận hơn, cải thiện hiệu quả làm việc.
Tính năng quản lý tài khoản người dùng của elms cho phép phân quyền truy cập tùy theo từng người dùng cụ thể.


Tùy chọn giảm điện áp cho quan sát SEM

Tùy chọn làm chậm chùm tia (retarding) trên hệ thống ELS-ORCA hỗ trợ quan sát SEM với độ phân giải cao và ít gây hư hại mẫu.
Với điện áp gia tốc thấp tương đương hệ SEM chuyên dụng, ELS-ORCA có thể quan sát vùng mẫu lên tới 6 inch trên wafer 8 inch.

Ngoài ra, hệ thống còn hỗ trợ quan sát SEM tự động dựa trên dữ liệu CAD đã chuẩn bị sẵn cho quá trình phơi sáng.

Nhiều Tùy Chọn và Thông Số Kỹ Thuật Tùy Biến

ELS-ORCA là hệ thống quang khắc bằng chùm tia điện tử 30 kV có thể được tùy chỉnh với nhiều tùy chọn khác nhau như điện áp gia tốc 50 kV, lấy nét/stigma động và điều chỉnh tiêu cự hỗ trợ bằng cảm biến độ cao. Với sự kết hợp của các tùy chọn này, ELS-ORCA trở thành một hệ thống được thiết kế riêng để đáp ứng các yêu cầu cá nhân của các nhà nghiên cứu.

Phần Mềm Thân Thiện Với Người Dùng

Phần mềm điều khiển máy mới mang tên “elms” được cài đặt sẵn trên hệ thống ELS-ORCA. Elms là một bộ phần mềm toàn diện gồm các mô-đun như chuyển đổi dữ liệu CAD, điều chỉnh chùm tia, chiếu và quan sát SEM. Hệ thống dạng mô-đun này giúp người dùng dễ dàng tiếp cận các chức năng cần thiết và nâng cao hiệu quả quy trình làm việc. Chức năng quản lý tài khoản của elms cho phép giới hạn quyền truy cập các chức năng theo từng người dùng.

Tùy Chọn Làm Chậm Tia Cho Quan Sát SEM

Tùy chọn làm chậm tia (retarding) của ELS-ORCA cho phép quan sát SEM với độ phân giải cao và ít gây hư hại mẫu. Với điện áp gia tốc thấp tương đương với các hệ thống SEM, ELS-ORCA có thể quan sát khu vực lên đến 6 inch trên wafer 8 inch. Ngoài ra, hệ thống còn hỗ trợ chức năng quan sát SEM tự động bằng cách sử dụng dữ liệu CAD đã chuẩn bị cho quá trình chiếu.

Sợi phát TFEZrO/W Sợi phát trường nhiệt (Thermal field emitter)
Điện áp gia tốc1 ~ 30 kV    1 ~ 50 kV ※ Tùy chọn
Đường kính chùm tia nhỏ nhấtD 2.0 nm D 1.6 nm
Dòng chùm tia5 pA ~ 80 nA
Tần số quét100 MHz
Bước bắn nhỏ nhất (Shot Pitch)Tối thiểu. 0.1 nm
Kích thước trường tối đa. 1000 µm□
Kích thước mẫu tối tối đa. Wafer 8” inch
Diện tích chiếu tối đa. 150 mm x 150 mm
Cơ chế nạp mẫuTự động nạp đơn (Single AutoLoader)
 Phần mềmelms gồm các chức năng: 
• Điều chỉnh chùm tia
• Lịch trình chiếu
• Chuyển đổi dữ liệu mẫu (pattern)
• Quản lý tài khoản
• Viết script bằng Python
 
  • Chia sẻ qua viber bài: Hệ thống quang khắc chùm electron ELS-ORCA
  • Chia sẻ qua reddit bài:Hệ thống quang khắc chùm electron ELS-ORCA

sản phẩm

Loading...

Sản phẩm liên quan

Hệ thống Quang khắc không mặt nạ đầu dò nhiệt NanoFrazor

NanoFrazor dùng công nghệ khắc nhiệt không mặt nạ (t-SPL) với đầu dò siêu nhọn, tạo cấu trúc nano chính xác cao, không cần chùm điện tử hay mặt nạ đắt tiền. Độ sâu khắc sai số <1nm, tích hợp kiểm tra in-situ, hỗ trợ grayscale 3D cho quang tử nano, cảm biến lượng tử, màng sinh học. Module Decapede 10 đầu dò giúp tăng thông lượng gấp 10 lần.
Xem thêm

Hệ thống Quang khắc không mặt nạ sản xuất khối lượng lớn MLA 300

MLA 300 được tối ưu cho sản xuất khối lượng lớn. Công nghệ Spatial Light Modulator (SLM) cho phép hiệu chỉnh biến dạng theo từng die, tự động lấy nét theo bề mặt cong, tương thích với SECS/GEM. Loại bỏ hoàn toàn chi phí và rắc rối của mask vật lý. Ứng dụng trong sản xuất MEMS, cảm biến, ASIC, advanced packaging, power electronics.
Xem thêm

Hệ thống Quang khắc không mặt nạ Grayscale DWL 2000 GS / 4000 GS

DWL 2000 GS / 4000 GS đáp ứng chuẩn công nghiệp, hỗ trợ xuất CAD với 1023 mức xám. Công nghệ Grayscale độc quyền từ Heidelberg Instruments cho phép tạo cấu trúc 2.5D và vi thấu kính với độ nhám bề mặt xuống 5nm. Giải pháp tối ưu cho chế tạo hologram, bộ khuếch tán ánh sáng và thấu kính Fresnel trong nghiên cứu quang tử, vi quang học.
Xem thêm

TIN MỚI

CHÚNG TÔI ĐÃ CHUYỂN TỚI WWW.adst.vn

CÁM ƠN BẠN ĐÃ GHÉ THĂM WEBSITE MỚI CỦA CHÚNG TÔI!

CHUYỂN TRANG