ELS‑BODEN là hệ thống quang khắc chùm electron cao cấp do Elionix (Nhật Bản) phát triển, thiết kế phục vụ cho cả mục tiêu nghiên cứu và sản xuất bán dẫn quy mô nhỏ đến trung. Hệ thống được trang bị công nghệ viết trực tiếp (direct‑write) với độ phân giải nanomet, hỗ trợ đa kích thước wafer từ 8‑inch đến 12‑inch.
ELS‑BODEN là hệ thống quang khắc chùm electron cao cấp do Elionix (Nhật Bản) phát triển, thiết kế phục vụ cho cả mục tiêu nghiên cứu và sản xuất bán dẫn quy mô nhỏ đến trung. Hệ thống được trang bị công nghệ viết trực tiếp (direct‑write) với độ phân giải nanomet, hỗ trợ đa kích thước wafer từ 8‑inch đến 12‑inch.
| Thông số | Giá trị |
|---|---|
| Nguồn electron | Thermal Field Emitter ZrO/W |
| Điện áp tăng tốc | 50 kV, 100 kV, 125 kV, tới 150 kV |
| Dòng điện | 5 pA → 800 nA tùy biến |
| Đường kính beam nhỏ nhất | 1.5 nm đến 2.8 nm (tùy theo mô‑đun) |
| Shot pitch | Tối thiểu 0.2 nm |
| Scan clock | 100 MHz tiêu chuẩn; bản Σ (Sigma) lên đến 400 MHz |
| Phạm vi viết mẫu | Trường 500 µm – cấu hình tối đa 3000 µm (3 mm) vuông |
| Kích thước wafer tương thích | Từ wafer 2", 3", 4", 5", 6", 7", 8" đến wafer 12" – đây là dòng hệ thống đầu tiên hỗ trợ full‑12‑inch footprint |
| Độ chính xác stitching / overlay | Stitching < ±15 nm, Overlay < ±20 nm |
Sử dụng phần mềm điều khiển “ELMS” trực quan, hỗ trợ:
chuyển đổi CAD/GDSII,
điều chỉnh beam,
lập lịch exposure,
quan sát SEM tích hợp,
quản lý tài khoản người dùng,
và Python scripting để tự động hóa quy trình
Hệ thống có các lựa chọn loader tự động: single auto‑loader (R&D), multi-loader và robot loader cho quy mô sản xuất nhỏ tới trung bình
Độ phân giải sub‑10 nm: phục vụ nghiên cứu và sản xuất thử nghiệm các cấu trúc nano độ chính xác cao.
Thích hợp cho mask‑making và prototyping: thiết kế vi mạch, mask cao độ phân giải.
Nhiều cấu hình tùy chọn: từ nghiên cứu độ phân giải cao tới chế độ high‑throughput với beam dòng lớn (≤ 800 nA) kết hợp scan clock nhanh.
Độ ổn định cao khi lệnh exposure kéo dài nhờ nguồn phát điện phóng nhiệt ZrO/W.
Các trung tâm nghiên cứu nanotechnology & vật liệu tiên tiến – ví dụ: ở Nhật (NIMS), tại Đại học Bar-Ilan (Israel)… nơi các hệ ELS‑BODEN 100kV đang hoạt động hiệu quả
Phòng clean‑room nghiên cứu & R&D bán dẫn, cần viết mẫu chất lượng cao, không phụ thuộc photomask.
Xưởng sản xuất nhỏ / pilot line, cần viết mask, wafer mẫu với kỹ thuật tiên tiến.
Chi phí đầu tư cao, đặc biệt module Sigma với scan clock 400 MHz và stage tốc độ cao
Yêu cầu phòng sạch, điều kiện môi trường kiểm soát nghiêm ngặt (vibrations, nhiệt độ, chân không).
Không phù hợp sản xuất hàng loạt lớn do throughput hạn chế so với khắc quang khắc UV/EUV.
ELS‑BODEN từ Elionix là hệ thống Electron Beam Lithography mạnh mẽ, kết hợp độ phân giải cao (dưới nanomet), khả năng xử lý wafer lớn (đến 12"), và phần mềm tự động thông minh. Đây là giải pháp lý tưởng cho các ứng dụng nghiên cứu vi mạch tiên tiến, phát triển sản phẩm nanofabrication, và tạo mask chất lượng cao.
