Hệ thống lắng đọng hơi vật lý PRO Line PVD 75

Tổng quan:

  • Bốc hơi nhiệt (tối đa bốn thuyền riêng lẻ 4" hoặc sáu tổ hợp thuyền 2")
  • Nguồn phún xạ TORUS® Magnetron (tối đa sáu nguồn 2" hoặc 3")
  • Nguồn bay hơi tia điện tử (4 túi 8cc, 8 túi 12cc, 6 túi 20cc)
  • LTE10 Nguồn lắng đọng hữu cơ (tối đa hai)
  • Cho phép lựa chọn cấu hình tuỳ chỉnh theo yêu cầu của khách hàng

Đặc điểm chính:

Thân máy cơ bản với khung máy và buồng phủ lắng đọng:

  • Buồng thép không gỉ 304 buồng với cửa nhôm và khung quan sát lớn.
  • Màn hình cảm ứng điều khiển thủ công hoặc điều khiển theo công thức, tự động hóa quy trình dựa trên máy tính.
  • Hệ chân không bơm ion phân tử hoặc lựa chọn bơm với môi chất làm lạnh
  • Các công nghệ lắng đọng tùy chọn có thể lắp đặt hoặc nâng cấp:
  • Phún xạ Magnetron: RF, DC, Xung DC, Phún xạ magnetron xung công suất cao (HiPIMS / HPPMS)
  • Bốc bay chùm electron.
  • Bốc bay nhiệt
  • Bốc hay chất hữu cơ
  • Làm sạch bề mặt nguồn ion hoặc hỗ trợ lắng đọng

 

Hệ thống PRO Line PVD 75 Series được lắp đặt tại Đại học Khoa học và công nghệ Hà Nội (USTH)


 

Thể tích buồng xử lý 100 lít

Buồng bằng thép không gỉ 304L hình hộp: Rộng 387,4mm x sâu 419,1mm x cao 610mm), kích thước bên trong.

Buồng thiết kế với cửa trước, vòng đệm nhôm hàn kín hai mặt đảm bảo khả năng tối đa cho việc nâng cấp và lắp đặt thêm các mô đun.

Cấu tạo tủ bằng thép cacbon, khung đỡ máy kín hoàn toàn, khu vực buồng để mở.

Nguồn lắng đọng (phủ): sẵn sàng với nhiều dạng kết hợp khác nhau)

  • Nguồn catot phún xạ magnetron lên đến (6) 3 ''

  • Nguồn chùm tia điện tử 4 khay 8cc, 8 khay 12cc và 6 khay 20cc

  • Nguồn bốc bay nhiệt lên đến (4) 4 ''

  • Nguồn bốc bay hữu cơ lên đến 2 nguồn

Hướng lắng đọng: từ dưới lên trên.

  • Nguồn ion làm sạch bề mặt hoặc nguồn ion tác động mẫu với Bias eH400 hoặc RF 100W
  • Kích thước đế mẫu (tối đa) một tấm 6 '' (150mm) với chức năng quay và có thể điều chỉnh độ quay tối đa 20 vòng/phút.
  • Đế mẫu gia nhiệt lên đến 850 ° C ( mẫu đơn150mm) hoặc làm mát bằng nước (mẫu đơn 150mm)
  • Bơm chân không tiêu chuẩn Bơm Turbo 790 l / giây - 5 x 10-7 torr (6,7 x 10-7 mbar) 1250 l / giây Turbo hoặc - 8 x 10-8 torr (1,1 x 10-7 mbar)
  • Có sẵn bơm Cryo 1500 l / giây - 5 x 10-8 torr (6,7 x 10-8 mbar)
  • Đo máy đo chân không phạm vi rộng
  • Quy trình Khí 4 Kênh Điều khiển lưu lượng khối lượng với van cổng 3 vị trí hoặc vị trí thay đổi
  • Kiểm soát hệ thống HMI dựa trên PC, kiểm soát công thức nâng cao eKLipseTM và lập danh mục dữ liệu
  • Công suất yêu cầu (điển hình, dựa trên các tùy chọn) 208VAC, 3Ø, 50/60 Hz;
  • Tùy chọn 380VAC, 3Ø, 50/60 Hz
  • Chứng chỉ, Bảng điểm có sẵn Các hệ thống trong Khu vực Kinh tế Châu Âu (EEA) được đánh dấu CE và tuân thủ tuân theo các chỉ thị của EU: -Chỉ thị điện áp thấp (LVD) 2014/35 / EU -Chỉ thị về khả năng tương thích điện từ (EMC) 2014/30 / EU Các hệ thống bên ngoài EEA có thể được đánh dấu CE theo yêu cầu Có chứng nhận CSA và NRTL Bảo hành 12 tháng khi giao hàng
  • Kích thước tổng thể (xấp xỉ) rộng 73,5 ”(1866,9mm) x sâu 32” (812,8mm) x cao 75,9 ”(1928mm) Trọng lượng (khoảng) 1.800 lbs (816 kg)

Một số tính năng lựa chọn hoặc nâng cấp có thể trên :

  • Đế mẫu gia nhiệt, làm mát hoặc điều chỉnh bề mặt

  • Cố định chất nền hành tinh

  • Kiểm soát áp suất

  • Kiểm soát độ dày màng phủ

  • Phún xạ Magnetron: RF, DC, Xung DC,
  • Phún xạ xung magnetron công suất cao (HiPIMS/HPPMS)
  • Sự bay hơi chùm tia điện tử
  • bốc hơi nhiệt
  • Vật liệu hữu cơ bay hơi
  • Làm sạch chất nền nguồn ion hoặc
  • hỗ trợ lắng đọng
  • Làm nóng, làm mát hoặc phân cực chất nền
  • Khóa tải chất nền
  • Cài đặt và đào tạo tại chỗ
  • Hộp khóa chân không trao đổi mẫu (load lock)
  • Chia sẻ qua viber bài: Hệ thống lắng đọng hơi vật lý PRO Line PVD 75
  • Chia sẻ qua reddit bài:Hệ thống lắng đọng hơi vật lý PRO Line PVD 75

sản phẩm

Loading...

Sản phẩm liên quan

Hệ thống Quang khắc không mặt nạ đầu dò nhiệt NanoFrazor

NanoFrazor dùng công nghệ khắc nhiệt không mặt nạ (t-SPL) với đầu dò siêu nhọn, tạo cấu trúc nano chính xác cao, không cần chùm điện tử hay mặt nạ đắt tiền. Độ sâu khắc sai số <1nm, tích hợp kiểm tra in-situ, hỗ trợ grayscale 3D cho quang tử nano, cảm biến lượng tử, màng sinh học. Module Decapede 10 đầu dò giúp tăng thông lượng gấp 10 lần.
Xem thêm

Hệ thống Quang khắc không mặt nạ sản xuất khối lượng lớn MLA 300

MLA 300 được tối ưu cho sản xuất khối lượng lớn. Công nghệ Spatial Light Modulator (SLM) cho phép hiệu chỉnh biến dạng theo từng die, tự động lấy nét theo bề mặt cong, tương thích với SECS/GEM. Loại bỏ hoàn toàn chi phí và rắc rối của mask vật lý. Ứng dụng trong sản xuất MEMS, cảm biến, ASIC, advanced packaging, power electronics.
Xem thêm

Hệ thống Quang khắc không mặt nạ Grayscale DWL 2000 GS / 4000 GS

DWL 2000 GS / 4000 GS đáp ứng chuẩn công nghiệp, hỗ trợ xuất CAD với 1023 mức xám. Công nghệ Grayscale độc quyền từ Heidelberg Instruments cho phép tạo cấu trúc 2.5D và vi thấu kính với độ nhám bề mặt xuống 5nm. Giải pháp tối ưu cho chế tạo hologram, bộ khuếch tán ánh sáng và thấu kính Fresnel trong nghiên cứu quang tử, vi quang học.
Xem thêm

TIN MỚI

CHÚNG TÔI ĐÃ CHUYỂN TỚI WWW.adst.vn

CÁM ƠN BẠN ĐÃ GHÉ THĂM WEBSITE MỚI CỦA CHÚNG TÔI!

CHUYỂN TRANG