Quang khắc chùm tia điện tử (Electron Beam Lithography – EBL): Công nghệ then chốt trong chế tạo nano và vi mạch
Quang khắc chùm tia điện tử (Electron Beam Lithography – EBL) là một trong những công nghệ tiên tiến nhất trong lĩnh vực chế tạo vi cấu trúc và nano cấu trúc, được sử dụng rộng rãi trong nghiên cứu khoa học và sản xuất vi mạch hiện đại. EBL là một kỹ thuật “maskless lithography”, tức là không cần mặt nạ, cho phép vẽ trực tiếp các mẫu hình cực nhỏ với độ phân giải ở thang nanomet trên bề mặt vật liệu thông qua việc sử dụng chùm tia electron năng lượng cao.
Keep Reading